Metodeu évaporasi sinar éléktron nyaéta jenis palapis évaporasi vakum, anu ngagunakeun balok éléktron langsung panas bahan évaporasi dina kaayaan vakum, vaporize bahan évaporasi jeung ngangkut ka substrat, sarta ngembun dina substrat pikeun ngabentuk pilem ipis. Dina alat pemanasan sinar éléktron, zat dipanaskeun disimpen dina crucible cai-tiis, nu bisa nyingkahan réaksi antara bahan évaporasi jeung témbok crucible sarta mangaruhan kualitas pilem. Sababaraha crucibles bisa ditempatkeun dina alat pikeun ngahontal évaporasi simultaneous atawa misah jeung déposisi rupa zat. Kalayan évaporasi sinar éléktron, bahan naon waé tiasa ngejat.
Évaporasi pancaran éléktron tiasa nguapkeun bahan titik lebur anu luhur. Dibandingkeun sareng évaporasi pemanasan résistansi umum, éta gaduh efisiensi termal anu langkung luhur, dénsitas arus sinar anu langkung luhur, sareng laju évaporasi langkung gancang. Pilem sareng pilem tina rupa-rupa bahan optik sapertos kaca konduktif.
Karakteristik évaporasi sinar éléktron nyaéta yén éta moal atanapi jarang nutupan dua sisi struktur tilu diménsi target, sareng biasana ngan ukur deposit dina permukaan target. Ieu bédana antara évaporasi sinar éléktron na sputtering.
Évaporasi sinar éléktron ilahar dipaké dina widang panalungtikan semikonduktor jeung industri. Énergi éléktron gancangan dipaké pikeun nyerang udagan bahan, ngabalukarkeun udagan bahan pikeun ngejat sarta naek. Antukna dititipkeun kana udagan.
waktos pos: Dec-02-2022